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樋口彻樋口彻 教授hjc888黄金城中国官方网站高等工学部物理工程系
| 群组 | 纳米技术/材料、环境 |
| 研究/技术关键字 | 氧化物电子器件 |
| 研究/技术主题 |
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| 研究/技术内容 | 在通过堆叠不同类型的氧化物薄膜形成的异质界面处，会发生在体材料中无法预测的电荷移动，并且这种行为会导致电性能发生巨大变化。由于这种氧化物异质界面的大部分行为仍然未知，我们正在使用软 X 射线光谱法对电子结构进行研究。基于此处获得的知识，我们正在通过使用氧自由基的射频磁控溅射制造氧化物异质界面来进行电学和光谱研究，目的是提高光催化效应的效率和激活，从而创建固体氧化物燃料电池、下一代能源存储和清洁环境。 |
| 工业用途 | |
| 产学界合作的可能形式 | 联合研究、接受合同研究人员、合同研究、技术咨询和指导、支持国际产学合作 |
| 特定的产学合作形式 | 氧化物离子导体溅射薄膜的制备采用交流阻抗法测量和分析离子电导率 |
| 其他附属研究机构 | |
| 附属实验室 | 樋口实验室 |
| 专有研究设备 | RF磁控溅射装置（3台）、软X射线能谱仪、阻抗分析仪、原子力显微镜、X射线衍射装置、分光高度计、背光电子能谱仪 |
| 可持续发展目标 |
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